secondary impact electron
基本解釋
- [電子、通信與自動(dòng)控制技術(shù)]二次碰撞電子
英漢例句
- Gate current for pMOSFETs is composed of direct tunneling current, channel hot hole, electron injection current, and highly energetic hot holes by secondary impact ionization.
柵電流由四部分組成 :直接隧穿電流、溝道熱空穴、一次碰撞電離産生的電子注入、二次碰撞電離産生的空穴注入 。
雙語(yǔ)例句
專業(yè)釋義
- 二次碰撞電子