electron beam lithography
基本解釋
- [電子] 電子束曝光;[電子] 電子束蝕刻
英漢例句
- Electron Beam Lithography;
電子束曝光系統(tǒng); - The manufacture of high-line-density X-ray transmission gratings for X-ray spectroscopy by using electron beam lithography and X-ray lithography was reported.
針對(duì)X射線(xiàn)透射光柵攝譜儀中的高線(xiàn)密度光柵,研究了採(cǎi)用電子束曝光和X射線(xiàn)曝光技術(shù)結(jié)郃制作高線(xiàn)密度X射線(xiàn)透射光柵的工藝技術(shù)。 - This paper introduces the development of electron beam lithography around the world and basic fundamentals of pattern generator.
論文分析了國(guó)內(nèi)外電子束曝光技術(shù)的發(fā)展和圖形發(fā)生器的工作原理。
雙語(yǔ)例句
詞組短語(yǔ)
- electron -beam lithography technology 電子束光刻技術(shù)
- scanning -electron-beam lithography system 掃描電子束曝光機(jī)
- scanning electron beam lithography 掃描式電子束刻蝕
- write electron beam lithography 掃描式電子束光刻
- Electron Beam Projection Lithography 投射式電子束微影術(shù);電子束微影技術(shù)
短語(yǔ)
專(zhuān)業(yè)釋義
- 電子束刻蝕法
- 電子束微影
- 電子束曝光
- 電子束光刻技術(shù)
- 電子束蝕刻
- 電子束石版印刷術(shù)
- 電子束光刻
- 電子束平版印刷術(shù)