catalytic chemical vapor deposition

基本解釋

• [機(jī)械工程]催化化學(xué)氣相沉積

英漢例句

雙語(yǔ)例句

• Polysilicon thin films are deposited by catalytic chemical vapor deposition method. The substrate temperature is 300 ℃ and catalytic hot wire is tungsten filament.
  以金屬鎢爲(wèi)催化熱絲，採(cǎi)用熱絲催化化學(xué)氣相沉積，在300℃的玻璃襯底上沉積多晶矽薄膜。

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詞組短語(yǔ)

短語(yǔ)

• catalytic chemical vapor deposition method 催化化學(xué)蒸汽沉積法
• Floating Catalytic Chemical Vapor Deposition 浮遊催化化學(xué)氣相沉積
• catalytic chemical vapor deposition technique 催化化學(xué)氣相沉積法
• catalytic chemical vapor deposition cat -cvd 催化化學(xué)氣相沉積
• Chemical Vapor catalytic Deposition 化學(xué)氣相催化裂解法

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專業(yè)釋義

機(jī)械工程

• 催化化學(xué)氣相沉積